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可控高溫原位X射線測(cè)試臺(tái)
簡(jiǎn)要描述:

可控高溫原位X射線測(cè)試臺(tái)是一種集成了高溫控制與X射線衍射分析功能的科研設(shè)備。適用于晶體材料物相定性和定量分析、衍射譜的指標(biāo)化和點(diǎn)陣參數(shù)的測(cè)定、晶粒尺寸及點(diǎn)陣畸變的測(cè)定、薄膜物相的測(cè)定以及原位高溫結(jié)構(gòu)變化的動(dòng)態(tài)分析等。

  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2024-11-29
  • 訪  問(wèn)  量:450
詳情介紹
品牌中科萬(wàn)垣
  一、產(chǎn)品概述:
  可控高溫原位X射線測(cè)試臺(tái)主要用于研究材料在高溫環(huán)境下的結(jié)構(gòu)變化與性能表現(xiàn),適用于晶體材料物相定性和定量分析、衍射譜的指標(biāo)化和點(diǎn)陣參數(shù)的測(cè)定、晶粒尺寸及點(diǎn)陣畸變的測(cè)定、薄膜物相的測(cè)定以及原位高溫結(jié)構(gòu)變化的動(dòng)態(tài)分析等。通過(guò)該設(shè)備,研究人員可以在不破壞樣品的情況下,直接觀察材料在高溫下的結(jié)構(gòu)演變,為材料科學(xué)、化學(xué)、物理等領(lǐng)域的研究提供有力支持。
  二、裝置參數(shù):
  1.裝置包含溫控器,原位池腔體,加熱系統(tǒng),上位機(jī)軟件,真空系統(tǒng);
  2. 裝置采用PID智能控制,USB信號(hào)傳輸,溫度曲線數(shù)據(jù)采集,可存儲(chǔ),可調(diào)取;
  3.可多點(diǎn)溫控校正,溫度可限設(shè)置,溫度可以多程序段設(shè)置;
  4.溫度范圍常溫-1000℃,控溫精度小于0.3℃,升溫速率:80℃/min;
  5.裝置采用電阻加熱,傳感器置于樣品下方,能直觀反映樣品真實(shí)溫度變化;
  6.升溫臺(tái)直徑25mm, 窗采用半球型結(jié)構(gòu),平面360°無(wú)遮擋采集,進(jìn)口PEEK材質(zhì);
  7.裝置采用O型圈密封,密封良好,可以抽真空,可充通反應(yīng)氣體;
  8. 裝置采用航空鋁材質(zhì),裝置外形110mm*80mm*50mm,凈重0.5Kg;
  9.腔體冷卻方式:采用循環(huán)水冷卻;
  10.裝置.操作簡(jiǎn)單,安裝方便,測(cè)試一致性好;;
  11. 裝置廣泛應(yīng)用在各大主流衍射儀品牌上以及同步輻射,無(wú)需改裝儀器。
  三、應(yīng)用領(lǐng)域:
  可控高溫原位X射線測(cè)試臺(tái)廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、化學(xué)、物理等領(lǐng)域的研究中,特別是在研究材料在高溫下的結(jié)構(gòu)變化、性能表現(xiàn)以及反應(yīng)機(jī)理方面具有重要意義。
  綜上所述,是一種功能強(qiáng)大、易于操作與維護(hù)的科研設(shè)備,為材料科學(xué)、化學(xué)、物理等領(lǐng)域的研究提供了有力支持。
可控高溫原位X射線測(cè)試臺(tái)


 

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